Представлена технология текучего углерода для дальнейшего масштабирования полупроводников

Более двух десятилетий производители чипов полагались на традиционные углеродные пленки, которые не соответствовали требованиям современных 3D-устройств, где производительность заполнения зазоров, контроль топографии и точность формирования рисунк...
Читать полный текст в источникеrussianelectronics.ru — russianelectronics.ru
Материал собран автоматически из открытых RSS-источников. Пересказ приведён в информационных целях в соответствии со ст. 1274 ГК РФ с указанием первоисточника; полное воспроизведение не осуществляется. Мнения авторов оригинала не обязательно отражают позицию ООО «АЛТЕЯ». Все источники проверены по реестру СМИ-иноагентов Минюста РФ (255-ФЗ).